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真空納米鍍膜工藝過程

時(shí)間:2019-03-28| 作者:Admin

真空納米鍍膜沉積過程分為三步: 

1.首先在真空條件下, 以120℃將固態(tài)粉末狀的對二甲苯的二聚物 (di-para-xylylene; dimer) 加熱汽化;

2.然后以650℃ 將氣態(tài)的對二甲苯的二聚物 ,裂解為對二甲苯 (para-xylylene) 的 活性單體(monomer);

3.最后氣態(tài)活性單體在室溫下沉積并聚合成聚對二甲苯 (Poly-para-xylylene )的薄膜。

      當(dāng)氣態(tài)單體進(jìn)入沉積腔室,首先會(huì)彌漫在工件表面,當(dāng)吸附到各個(gè)表面后開始聚合和結(jié)晶,直接形成固體,避免了液相的出現(xiàn),清除了厚度的不均勻和涂層的缺陷。(應(yīng)用領(lǐng)域:LED行業(yè)、電子行業(yè)、醫(yī)療器械、印刷電路板、微電子、磁性行業(yè)、半導(dǎo)體、橡塑產(chǎn)品、文物保護(hù)、特殊領(lǐng)域)工能:絕緣強(qiáng)和耐高溫,抗腐蝕、耐酸堿、潤滑、防塵、防潮、透明、防水、抗老化。

真空納米鍍膜工藝流程圖.jpg

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